如何製作微小結構?
生活中的3C產品是由許多光電和半導體元件組成的,這些元件上有許多肉眼看不見的微小結構,過去都使用「光學微影技術」或「電子束微影技術」製作。

光學微影技術
此技術利用光學投射方式,使光罩上的圖案縮小並轉印至晶圓上塗佈的感光層(阻劑)。
感光層在照光後容易被溶劑去除,因而曝露出晶片表面,可進一步被蝕刻;而未受光曝照到的感光層則可以保護晶片表面,使其不被蝕刻。
所以,光罩上的圖案可轉移至晶片上,形成具相同圖案的微小結構。


電子束微影技術
此技術不需利用光罩,而是用電子束直接將圖案「畫」在晶圓表面塗佈的阻劑上。


奈米壓印
此技術先用電子束等方式製出母模,再用蓋章方式將母模重複壓印在阻劑上,即可形成微小圖案。
奈米壓印可重複利用母模快速、大量製作100奈米以下圖形,能夠應用在正蓬勃發展的軟性電子產業上(如可彎曲的螢幕)。


一般奈米壓印
奈米壓印跟封蠟印章的原理相似,先在表面塗佈阻劑材料,再用做好的模具壓下,就可以做出想要的圖案。
奈米壓印的模具是奈米等級,能夠重複壓印出一樣的圖樣,可用於大量製作光碟、晶片及太陽能電池等內的微細結構。
但是如同使用封蠟印章一般,被壓處仍會有殘留的光阻材料,需要再多一道工序將殘留層的材料去除。為了增加效率,因此發展出「無殘留層奈米壓印」。

無殘留層奈米壓印
此種新式奈米壓印可直接將光阻材料填入模具,再將模具中的材料轉移至表面,避免殘留層的產生。