要使產品達到奈米等級的效果，必須將材料奈米化，理想的奈米材料必須符合粒子特徵長度都在奈米範圍、粒徑型態均一且分散性良好等條件。奈米材料的製造方法很多，主要可歸類為以下二種：

由大而小的方法：

最常見的有研磨法及微影蝕刻法二種。研磨法是將粉體加入在含有許多研磨珠的筒狀研磨壺中，以剪切、撞擊方式研磨，就可以獲得奈米粉體材料。微影蝕刻法就好像傳統相機拍照和洗照片的流程，微影就是利用一定波長的光線與光罩照出所要的圖像，接著以蝕刻方式清洗出微影的奈米圖像。目前運用微影蝕刻法，已可做出線寬約在65奈米以下的半導體元件。

由小而大的方法：

通常是用合成及自組裝二種方式。合成法有物理以及化學方法二種。自組裝是藉著特定的物理、化學特性，讓各個成分能夠自己排列成特定結構，或自己排列到特定位置之技術。

合成奈米材料的方法

奈米材料的合成可歸納成以下兩類：

物理方法：

1、氣相蒸發法：用真空蒸發、加熱等方法，讓原料氣化後形成微粒子體，使之驟冷。
2、雷射/濺鍍法：用高能量之雷射或電子束照射塊材，經過分解、蒸發後就可形成奈米粒子或直接形成薄膜。

化學方法：

1、化學氣相沉積法：將化合物以加熱方式形成氣體，在氣相環境下進行化學合成反應，沈澱後形成奈米材料。
2、溶膠凝膠法：化合物經過水解、縮合反應形成溶膠、在持續反應下進而形成凝膠而固化，在溶膠與凝膠中都可得到奈米粒子。
3、水熱合成法：水熱合成法：在高溫高壓的條件下，原材料如金屬硝酸鹽，在水蒸汽中進行水解形成氫氧金屬，接著脫水析出形成金屬氧化物，不需高溫燒結，就可以直接生產奈米粉末。
M(NO3)x＋H2O→M(OH)x+xHNO3
M(OH)x→MOx/2+x/2H2O
4、沉澱法：把沉澱劑加在金屬鹽溶液中，經過沉澱、過濾、乾燥、?燒處理程序，可獲得奈米材料。
5、氧化還原法：以氧化還原的原理，利用還原劑如NaBH4等，將金屬鹽類CrCl3還原成Cr奈米粒子。也可以利用電極，與電解液之間的氧化還原反應，在電極上製作出奈米微粒。